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v 設(shè)備用途：熱蒸發(fā)是指把待鍍膜的基片或工件置于真空室內(nèi)，通過對鍍膜材料加熱使其蒸發(fā)氣化而沉積于基體或工件表面并形成薄膜或涂層的工藝過程?？稍诟哒婵障抡舭l(fā)高質(zhì)量的不同厚度的金屬薄膜。蒸鍍薄膜種類：Au, Cr, Ag, Al, Cu, In,有機(jī)物等
v 設(shè)備組成：有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)；真空測量系統(tǒng)；蒸發(fā)源；樣品加熱控溫；電控系統(tǒng)；配氣系統(tǒng)等部分組成
v 樣品尺寸：8inch
v 沉積源/真空度：根據(jù)用戶定制
v 控制系統(tǒng)：手動、全自動
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